無(wú)掩膜數(shù)字光刻機(jī) MCML-120A采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無(wú)掩膜掃描式光刻機(jī)，365nm波長(zhǎng)

直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過(guò)程，支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動(dòng)化的對(duì)焦和套刻，易于使用

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更新時(shí)間：2024-12-05

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無(wú)掩膜數(shù)字光刻機(jī) MCML-120A產(chǎn)品特點(diǎn)

采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無(wú)掩膜掃描式光刻機(jī)，365nm波長(zhǎng)

直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過(guò)程，支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動(dòng)化的對(duì)焦和套刻，易于使用

晶圓連續(xù)運(yùn)動(dòng)配合DMD動(dòng)態(tài)曝光，無(wú)拼接問(wèn)題。全幅面絕對(duì)定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圓），滿幅面曝光時(shí)間5~30分鐘

500um最小線寬

可灰度曝光（128階）

尺寸小巧，可配合專用循環(huán)裝置產(chǎn)生內(nèi)部潔凈空間

無(wú)掩膜數(shù)字光刻機(jī) MCML-120A

通用參數(shù)

應(yīng)用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

帶有2.5D圖案的微光學(xué)元件，衍射光器件制作

教學(xué)、科研

參數(shù)

	MCML-110A	MCML-120A
Wavelength 波長(zhǎng)	365nm	365nm
Max. frame 最大幀	100mm x 100mm	100mm x 100mm
Resolution 分辨率	1.0um	500nm
Grayscale lithography 灰度光刻	64 levels	128 levels
Max exposure 最大曝光量	500mJ/cm2	2000mJ/cm2
Alignment accuracy 對(duì)準(zhǔn)精度	<200nm	<100nm
field curvature 場(chǎng)曲率	< 1 um	< 1 um
Speed 速度	5mm2 /sec	2.5mm2 /sec
Input file 輸入文件	BMP, GDSII	BMP, GDSII
Z level accuracy Z級(jí)精度	<1 um	<1 um
Environment 環(huán)境	20~25℃	20~25℃